东吴证券-中微公司-688012-2025年中报点评：业绩持续增长，平台化布局陆续落地

“精选摘要：要点营收&扣非归母净利润稳健增长，薄膜产品加速放量：2025H1公司营收49.6亿元，同比+43.9%，其中刻蚀设备收入为37.8亿元，同比+40.1%；LPCVD&ALD设备营收2.0亿元，同比高增608.2%。营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升，LPCVD、ALD等新。”

1. 投资要点营收&扣非归母净利润稳健增长，薄膜产品加速放量：2025H1公司营收49.6亿元，同比+43.9%，其中刻蚀设备收入为37.8亿元，同比+40.1%；LPCVD&ALD设备营收2.0亿元，同比高增608.2%。

2. 营收显著增长主要得益于公司高端刻蚀设备付运量显著提升，LPCVD、ALD等新产品形成重复订单。

3. 2025H1归母净利润为7.1亿元，同比+36.6%，扣除非经常性损益后的净利润为5.4亿元，同比+11.5%，主要得益于营收增长带来的毛利增加。

4. Q2单季营收27.9亿元，同环比+51.3%/+28.3%；Q2归母净利润为3.9亿元，同环比+46.8%/+25.5%，扣非净利润为2.4亿元，同环比+9.2%/-19.4%。

5. 公司毛利率略降，研发投入大幅提升：2025H1毛利率为39.9%，同比-1.5pct；销售净利率为13.8%，同比-1.1pct；扣非净利率为10.9%，同比-3.1pct。

6. 期间费用率为29.7%，同比+3.3pct，其中销售费用率为3.9%，同比-2.0pct，管理费用率为4.0%，同比-1.5pct，研发费用率为22.5%，同比+6.0pct，财务费用率为-0.6%，同比+0.8pct。

7. 目前公司在研项目涵盖六类设备和20多个新设备，2025H1研发投入为14.9亿元，同比+53.7%。

8. Q2单季毛利率为38.5%，同环比+0.4pct/-3.0pct，主要系新设备确认收入影响；销售净利率为13.6%，同环比-1.0pct/-0.6pct；扣非净利率为8.6%，同环比-3.3pct/-5.1pct。

9. 存货&合同负债持续高增，在手订单充足：截至2025Q2末公司合同负债为31.7亿元，同比+24.8%；存货为80.8亿元，同比+19.2%，其中发出商品余额为40.3亿元。

10. 2025H1公司经营性现金流为2亿元，Q2单季为-1.7亿元，主要系运营规模扩大带来营运资金扩大。

11. 刻蚀产品持续领先，镀膜产品拓展顺利：（1）CCP设备：在逻辑领域已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀应用形成较为全面的覆盖，且已有大量机台进入国际5nm及以下逻辑；截至2025Q2末已交付4500个反应台（其中双反应台3300个、单反应台1200个反应台），较2024年Q2末增加超过900个反应台。

12. 公司先进制程高选择比&高深宽比刻蚀设备持续获得客户订单，2025H1分别装机超120/200个反应台。

13. 在存储领域，超高深宽比刻蚀机已在客户端验证出≥60：1深宽比结构的能力，成功进入2D&3D存储芯片产线。

14. 同时，公司积极布局超低温刻蚀技术，积极储备≥90:1深宽比刻蚀技术。

15. （2）ICP设备：公司ICP设备在客户端安装腔体数量近四年CAGR超100%，截至2025Q2末已累计安装超1200个反应台，覆盖超50个逻辑、DRAM、3DNAND等客户；公司的TSV刻蚀设备也已应用于先进封装。

16. 此外，公司正在研发用于5-3nm逻辑芯片的ICP刻蚀机。

17. （3）MOCVD设备：积极布局第三代半导体设备，现已在LED等GaN基设备市场占据领先地位，并在Micro-LED领域的MOCVD设备开发上取得良好进展。

18. 用于SiC器件的外延设备已付运样机至国内领先客户开展验证测试。

19. （4）薄膜沉积设备：①公司推出三款W薄膜沉积产品，涵盖CVD、HAR及ALD，其首台CVD钨设备付运到关键存储客户端验证评估，已通过客户现场验证，并获得客户重复量产订单。

20. ②公司开发的应用于高端存储和逻辑器件的ALD氮化钛、钛铝、氮化钽设备也已完成多个逻辑/存储客户验证；③减压EPI已顺利批量交付成熟制程客户，先进制程工艺处于验证阶段。

21. 同时，公司完成常压EPI的开发，进入工艺验证阶段。

22. （5）量检测设备：成立子公司超微公司引入电子束检测设备领军人才，已规划覆盖多种量检测设备。

23. 盈利预测与投资评级：我们维持公司2025-2027年归母净利润为24.3/34.0/44.5亿元，当前股价对应动态PE分别为58/42/32倍，维持“买入”评级。

24. 风险提示：晶圆厂扩产节奏不及预期，新品研发&产业化不及预期等。