中微公司(688012):收入实现高增 高端化+平台化战略稳步推进
新品研发进展顺利,高端化+平台化布局稳步推进公司各条线产品研发进展顺利:(1)刻蚀设备:逻辑芯片已经在从65 至5nm 及更先进节点量产;存储芯片方面,用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP 刻蚀机目前在生产线上验证顺利,工艺能力可以满足国内最先进的存储芯片制造的需求。此外,用于超高深宽比介质刻蚀的CCP 刻蚀设备也已量产。(2)MOCVD 设备:用于制造深紫外光LED 的高温MOCVD 设备PRISMO HiT3 和用于硅基氮化镓功率器件的MOCVD设备PRISMO PD5 已在客户生产线上验证通过并获得重复订单;用于Mini-LED 生产的MOCVD 设备PRISMO UniMax 亦开始进行规模化生产。(3)薄膜沉积设备:
公司已经实现六种薄膜沉积设备的高效研发与交付,其中LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破150 个反应台,其他多个关键薄膜沉积设备研发项目的研发进程均比较顺利,有望尽快进入客户验证阶段。我们认为:随公司设备高端化与平台化战略逐步起效,公司市场空间与盈利能力同步提升,有望在未来为业绩增长做出贡献。
风险提示:下游晶圆厂扩产幅度不及预期,新品研发及导入进度不及预期。