投资摘要 公司发布2024年年度报告:2024年公司实现营业收入90.65亿元,同比+44.73%;归母净利润16.16亿元,同比-9.53%;扣非后归母净利润13.88亿元,同比+16.51%。24Q4公司实现营业收入35.58亿元,同比+60.11%,环比+72.76%;归母净利润7.03亿元,同比+12.24%,环比+77.32%; 扣非后归母净利润5.75亿元, 同比+25.53%, 环比+74.01%。 刻蚀和薄膜设备端快速放量,全年收入实现快速增长。2024年公司营收同比实现较快增长,同比+44.7%,分产品来看,2024年刻蚀设备收入约 72.77亿元,同比+54.72%,腔体销售量为908个,同比增长49.83%,主因公司的等离子体刻蚀设备持续获得客户认可,高端产品新增付运量及销售额显著提升;MOCVD设备收入约 3.79 亿元,同比下降约 18.03%,降幅收窄;LPCVD薄膜设备2024年实现首台销售,全年设备销售约1.56 亿元,目前多款新型设备顺利进入市场并获得重复性订单,2024 年设备批量订单约 4.76 亿元。 公司持续加大研发投入,毛利率略有下滑。①利润端:2024年公司综合毛利率 41.06%,同比-4.76个百分点,毛利率略降主因质保费用计入营业成本;净利率为 17.81%,同比-10.67个百分点;扣非后净利率为15.31%,同比-3.71个百分点,主因研发投入加码以及无处置拓荆科技股份股权收益导致非经常损益下降(2023年同期处置股份产生税后净收益约4.06亿元,2024年无相关收益,预计影响净利率约4.48个百分点)。②费用端:2024年公司的期间费用率为 25.28%,同比+0.30个百分点, 其中销售/管理/研发/财务费用率分别为5.28% /5.31%/15.64% /-0.96%,分别同比-2.57/-0.17/+2.60/+0.44个百分点。公司保持高强度新设备研发,以满足高端半导体设备国产替代需求,截止24年末在研项目涵盖6类设备,总共有超过20款新设备在开发中,2024年公司研发投入约24.52亿元,同比增长11.90 亿元,增幅约94.31%。 设备新品研发进展顺利,平台化布局持续推进。公司坚持自主创新,产品布局及技术研发面向世界科技前沿,多个产品线取得不错进展: ①刻蚀设备:逻辑芯片制造领域,成熟产品可用于65 至 5 nm 及更先进技术结点量产,存储芯片制造领域,用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP 刻蚀机目前在生产线上验证顺利,此外用于超高深宽比介质刻蚀的 CCP 刻蚀设备进入规模量产阶段。②MOCVD 设备:用于碳化硅功率器件外延生产的设备正在开发中,即将开展样机在客户端的验证测试;制造 Micro-LED 应用的新型 MOCVD 设备也正在按计划顺利开发中。③薄膜类设备:已开发出6 款薄膜沉积产品推向市场,其中3 款钨系列薄膜沉积产品备均已通过关键存储客户端现场验证,3 款应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品已经完成多个先进逻辑客户设备端验证。④电子束量检测设备:公司于 2024 年新发起设立超微公司,着力开发电子束检测设备,公司将通过各种方式扩大对多门类量检测设备的市场参与和覆盖。
投资建议 我们预计公司2025-2027 年实现营业收入121.95/152.21/191.08 亿元,同比+34.53%/+24.81%/+25.54%;实现归母净利润23.59/31.30/40.12 亿元,同比+46.01%/+32.66%/+28.19%,当前股价对应 PE50/38/29倍,维持“买入”评级。
风险提示 下游客户扩产不及预期的风险、国际贸易摩擦加剧风险、新品开发和技术升级不及预期。